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全自动曝光机
设备数量：3台
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·： 最大适用基材尺寸：250mm*500mm
·： 最小适用基材尺寸：250mm*200mm
·： 菲林尺寸：285mm*550mm
·： 对位精度：±0.01mm(真空后)；±0.005mm(真空前)
·： 生产效率：10S/片
·： 光源解析能力：0.02mm（15干膜）
·： 曝光均匀度：≥85%
·： 生产基板厚度：min 0.015mm，max 0.3mm-0.6mm
- 设备参数
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·： 最大适用基材尺寸：250mm*500mm
·： 最小适用基材尺寸：250mm*200mm
·： 菲林尺寸：285mm*550mm
·： 对位精度：±0.01mm(真空后)；±0.005mm(真空前)
·： 生产效率：10S/片
·： 光源解析能力：0.02mm（15干膜）
·： 曝光均匀度：≥85%
·： 生产基板厚度：min 0.015mm，max 0.3mm-0.6mm